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等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术是一种薄膜制备的新技术,其原理是借助微波或射频等使含有薄膜组成的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,非常容易发生反应,从而在基片上沉积出所期望的薄膜。为使化学反应在较低温度下进行,利用等离子体的活性来促进反应。等离子体增强化学气相沉积的制备工艺的设备组成原理图:[URL=http://www.xianjichina.com/news ...
回复(0) | 点击(1021)| 发表于 2016-06-02 17:44:40